SEMICONDUCTOR FAB ENGINEERING

Layout 與 Hookup 知識手冊

從「機台怎麼擺」到「管線怎麼接」——整理晶圓廠設計中 Layout 規劃與 Hookup 配管的核心概念、規則架構與 MetAI 的 AI 解法。

快速導覽 · 三分鐘掌握全貌
01

Layout = 機台擺哪裡

在有限廠房空間內排出最多機台,同時滿足上百條設計規範。人工設計要 6-12 個月,AI Layout Engine 用強化學習可縮短到 72 小時。

02

Hookup = 管線怎麼接

把機台的每個接點(POU)依規則連到對應的供應端(TOP),中間要避開障礙、遵守彎頭數與坡度等硬限制,並在多個可行解中挑出最優路徑。

03

兩者共用同一套邏輯

都是「規則數位化 → 驗證圖面 → 生成方案 → 輸出圖檔」的流程,差別只在 Layout 解的是機台位置,Hookup 解的是連線路徑。

01

為什麼需要 Layout 規劃

建廠的核心目標是擴充產能,Layout 決定了空間利用率的上限

對 TSMC 而言,建廠的核心目標是擴充產能,而實現產能最大化的關鍵之一,在於有效規劃機台配置,也就是 Layout。在有限空間中,工程團隊致力於擺放最多的生產機台;由於半導體機台結構多樣(單層、雙層、三層式皆有),如何最佳化空間利用率、同時滿足產能需求,是設計 Layout 時最重要的課題。

困難與挑戰

半導體製程高度精密,為確保良率與產能,廠內設有上百條 Layout 設計規範,涵蓋機台相容性、冷卻水/化學品等廠務供應需求、安全法規遵循,以及跨樓層機台配置與附屬設備設計。一座新廠的 Layout 規劃通常需要 6–12 個月,仰賴工程人員人工設計,並須跨部門密切協調、反覆驗證與審查,流程複雜且耗時。

Macro Layout:廠房怎麼分區

Macro Layout 定義的是 Cleanroom 內各製程區的相對位置。常見的區域配置:

LIT / 微影區

對溫濕度、震動、潔淨度最敏感,EUV 機台通常自成一區,有專屬建築要求。

ETCH / CMP / PVD / CVD

主製程區,機台以 bay-and-chase 方式成排配置,中間穿插走道。

HPM 區

通常比較「髒」、且多為單層式機台,位於製程區的一側。

Metrology 量測機台

不獨立佔一個 Macro,而是散落分布進各製程區內。

Cleanroom 樓下還有 Subfab 與 Dirty Fab,機台的附屬設備(如 Chiller、VMB、DP 盤)往往落在這些樓層,因此 Layout 規劃必須跨樓層評估空間可行性。

02

AI Layout Engine 怎麼擺機台

用強化學習學出 TSMC 的擺放邏輯,讓機台自己「長」出最佳配置

AI Layout Engine 可將人工設計的 6–12 個月縮短至 72 小時,並允許使用者調整走道寬度等 config,測試不同的最佳化策略。只要建廠時間能縮短一個月,對 TSMC 就是多一個月的產能。

整體流程

1. 建立環境
→
2. 建立生產區域
→
3. 建立擺放條件
→
4. 資料確認
→
5. 產生 Layout
→
6. 產生報告

設計邏輯:Rule 定義「不可以」,AI 決定「怎麼做最好」

強化學習中,Rule 是界定「不可以」做的事,而不是「可以」做的事。以好鄰居壞鄰居表為例,機台由大到小依序擺放,AI 在可擺放區域內自由尋找最佳位置,而下列規則作為硬性遮罩(mask):

規則類型說明
兩條 Intra-bay 最相近機台 LP 中心 > 290cmAI 生成/越近越好屬於獎勵導向的最佳化目標
不可左右相鄰Rule-based硬性禁止
不可前後相鄰Rule-based硬性禁止
不可同 bayRule-based硬性禁止
不可同區域Rule-based硬性禁止
需距離 XX cm 以上Rule-based硬性禁止

Reward 機制:機台擺越多分數越高、剩餘空間越多分數越高——AI 在不違反硬規則的前提下,持續朝這兩個方向最佳化。

Training(訓練)與 Inference(推論)

每次輸入後會執行一連串策略最佳化:訓練階段模型會隨機探索各種擺法的可能性,直到收斂出一個最佳擺放策略(Best Policy);推論階段模型不再探索,只選擇當下機率最高的動作,重複執行直到產生完整佈局。每次訓練結束會做一次評估(Evaluation),作為判斷策略好壞的依據。

因為訓練過程具有隨機性,同一組輸入在不同機台上分別執行「訓練 + 推論」,可能會得到不同的最終結果。

目前面臨的挑戰

  • 規則是人類口語撰寫,轉譯為程式碼時存在模糊空間與極端案例,需理解設計精神才能正確實作。
  • 不同樓層(Fab Layout / Subfab Layout)、不同製程區域有各自的特例限制,泛化性有限。
  • 人為設計 Layout 時不會 100% 遵守規則,追求產能最大化時常有妥協,理想規則與實際設計存在落差。
  • 機台可跨樓層擺放,使模型的限制式學習環境不固定,是尋求最佳解的一大挑戰。
可行的緩解做法:請使用者重新檢視真正的需求、移除非必須的規則;理解 AI 擺出來的結果有機率不如人所願;最終結果仍可由人工微調以達到最佳期待。
03

Hookup 到底在解什麼

Problem Ontology:三個維度拆解「怎麼把兩個接點接起來」這件事

Hookup 求解的順序是:先透過接口分群把接點需求組成一條條「實體對實體連線」,再把每條連線經節點與 N:M 拆解變成多組一對一的選點問題,最後在解題範圍與有狀態路徑策略下產生實際走線。

維度一
基本題型:連線長什麼樣
→
維度二
解題範圍:多條線之間的耦合
→
維度三
有狀態路徑策略:實際怎麼走

3.1 維度一:基本題型

拓樸在這裡有兩層意思:一是整體連線的形狀(一對一、一對多);二是選點上的自由度(N 個候選起點對 M 個候選終點)。

一對一
機台接次幹管的單一支線
一對多(樹狀)
多台排氣支線匯入同一集管
N:M 選點
N 個候選起點對 M 個候選終點,選完後仍各自一對一

Node:拆解過程中「必須經過」的中介點

Node 不是預先存在的實體類別,而是在拆解一對一連線時,因為需要選點、分匯流或必經通過而產生的位置。常見三種型態:

  • 多接點單一物件:如集管(Header)、環狀管(O-ring),本身有多個可選接點位置。
  • 單接點單一物件:如門型架這類必經之路。
  • 群組物件:如一組 4 個 RC 孔,就形成 4 個可選點位置的 Node。
Entity: 4 個 Tool POU → 4:4 / 3:3 / 2:2 / 1:1
Node-A: RC 孔 → 1:1(必經門型架)
Node-B: 門型架 → 1:4 / 1:3 / 1:2 / 1:1
Entity: 4 個 Pump POU

接口分群:連線從哪裡來

在確認實體對實體連線之前,要先決定哪些接點屬於同一條連線,分幾群就有幾條連線,需考量三件事:

  • 相容性——群內接口兩兩相容才能同管
  • 容量——群內流量總和不得超過共用管容量
  • 目標——群數越少、管線越省

3.2 維度二:解題範圍(耦合關係)

多條線段之間常存在耦合,導致不能各自獨立求解:

資源競爭

多條線段搶同一個有限容量資源,如 RC 孔(一孔限量)或 Tray 截面,必須一起分配,若產生無解需退回重新搜尋。

聚合與配對

多條線之間有同行(共走一條走廊)、相鄰、幾何一致(轉折高程相近)、隔離等偏好或義務,第一條線會改變下一條的空間偏好。

跨系統耦合

不同廠務系統之間,設計上有固定的求解先後順序(邏輯來自空間需求度由大到小):

一般區域:PPL > 電力 > 排氣 > 排液 > 冷卻水=超純水 > 化學品 > 其餘氣體
WET/CMP 區:排液 > 化學品 > 排氣 > 電力 > 冷卻水=超純水 > 其餘氣體

此外,多系統共用同一空間時也有上下分層偏好,例如電纜架(Tray)上方不可有並行水路——這種上下關係只有相對於別的系統才成立,後解系統的空間偏好取決於先解系統實際走在哪裡。

3.3 維度三:有狀態路徑策略

實際走線時,動態規則(元件本身的規則)、環境規則(空間本身的規則)與目標需求三者共同決定每一步的路徑選擇。

(1) 動態規則:元件生成

元件擺放本身帶有規則,也會影響走線:

元件規則
彎管(Elbow)純幾何轉折,但受整段彎頭數上限或角度累積額度限制
洩氣閥(Vent Valve)排序規則,通常位於線段最高處
流量計(Flow Meter)直管段規則,需保持上游 10 倍管徑、下游 5 倍管徑的直管長度
縮管(Reducer)狀態轉移——通過後管徑縮小,下游淨空需求與壓損計算跟著改變

這些規則會在線上留下「之後走線要記得的事」,這就是狀態。規則對狀態有讀有寫:流量計上游 10D 是「讀」(檢查已累積的直管長度),下游 5D 是「寫」(留給後段的欠條)。

狀態類型範例影響下一步
物理截面縮管通過後管徑變小後段佔用與淨空需求改變、可穿的孔跟著變
幾何連續流量計下游尚欠 5D 直管;Drain 沿線只降不升的坡度接下來多長內不能轉彎、還能維持的坡度
累積額度已用彎頭數對上限、已用管長對長度上限剩餘還能用的額度
性能餘裕每個彎頭與縮徑各自增加壓損/真空導通損失整段壓損上限內還剩多少可用

(2) 環境規則:空間標注

空間本身帶規則,先於走線存在、與元件無關。走線時會把空間離散化(Voxel),每個切塊的可走性由兩層決定:

  1. 物理層:這格有沒有被柱、牆、既有管線占用——占用即不可走。
  2. 規則層:對未占用的格子標注偏好等級,決定走線成本:
標注意義
Preferred 偏好優先使用
Allowed 可行一般可使用(未標注格子預設為此)
Discouraged 低偏好可用但增加成本
Forbidden 禁止空著也不准走

(3) 目標需求

硬限制篩完後通常仍有多個可行解,目標負責排序。同一個量常有兩種身分:「最多 3 個彎頭」是硬限制,「彎頭越少越好」是目標;長度、壓損同理。常見目標包含路徑長度、彎頭數、壓損/真空性能、同行一致性、共享資源使用量、施工複雜度、維修可達性、空間成本,優先序與權重依系統與客戶設定。

04

走線規則怎麼分類

同樣叫「規則」,管的對象完全不同——分類速查表

規則約束的對象歸屬
哪些接口可以進同一條連線,含相容性與容量接口分群
連線兩端可以選哪些點、必經哪些 Node節點與 N:M 拆解
多條線之間的資源分配或相互關係:孔位、Tray 截面、同行、隔離、間距解題範圍
元件自身的幾何、順序、前後管段,走線沿途累積的狀態動態規則
空間格子可不可走、偏好等級環境規則
多個可行解之間的排序偏好目標需求
多個廠務系統之間先解哪個、後解哪個求解順序(跨系統耦合)

實際規則範例

規則原文歸屬性質
管路離樑 5cm、離柱面 2.5cm環境規則硬限制
維修空間上方走管列為軟性成本,非禁止環境規則目標
EUV 區 PPL 彎管角度加總不超過 180°,一般區 270°動態規則(累積額度)硬限制
橫向管路斜率至少 1/150動態規則(幾何連續)硬限制
合併管容量查流量表,例:一支 1 吋管可收三支 1/2 吋支管接口分群硬限制
不同氣體可放同一分配盤面,但同一支管必須同一氣體源接口分群硬限制
兩條 PPL 最外圍間隔至少 5cm(含管夾、保溫)解題範圍硬限制
同一 bay 的共管集管(Header)高程一致解題範圍(形態聚合)硬限制
三層式機台至幫浦前轉彎處應在 L10,雙層式在 L20有狀態路徑策略硬限制
系統求解順序:PPL>電力>排氣>排液>冷卻水=超純水>化學品>其餘氣體求解順序(跨系統耦合)無
分配盤優先放主機台正面(load port 側),空間不足依序改後方、側邊節點與 N:M 拆解目標
05

實際配管:以幾個系統為例

把前面的抽象概念對回真實系統的配管流程

Power(Sky Tray)

  1. Step 1:取得 AC Box 位置(Rack 視為 AC Box 延伸);取得需要電力的附屬設備位置並群組統計需求總量;依附屬設備上方間距判斷 tray 高度。
  2. Step 2:在附屬設備群集地區尋找 tray 可能空間,依附屬設備長寬決定 tray 方向。
  3. Step 3:將 AC Box 的 bbox 視為起點、tray 群組視為終點進行連接。
特殊情況:AC Box 的 bbox 與附屬設備 bbox 可能完全無交集,或交集處滿是障礙物,這兩種邊界案例都需要額外處理。

DP Panel(Distribution Panel,分配盤)

DP 盤的功能是把中央供應的製程氣體或化學品,在終端分配到不同製程或機台。已知的設計假設:

  • DP 盤永遠依循前 > 後 > 左右的方式擺放,以機台 load port 做為前方。
  • 每台機台的 DP 盤需求固定(例如一組 1v4 的需求不可拆解成兩組 1v2),可從 3D 圖塊中取得。
DP 需求導入
→
空間規劃
前 > 後 > 左右
→
DP/VP/DAQ 擺放
→
建立接管群組
→
Greedy 演算法尋路
→
匯出結果

Chemical / Drain(化學品排液)

Drain 系統的管線依 Utility Matrix 標註分為 general 與 chemical 兩種:

  • Chemical 型:POU 方向預設朝下,只需向下固定長出 n 單位長度的管線,不須複雜避障。
  • General 型:每個 POU 依 remark 標籤找到對應的 Submain 作為連接目標;同一類 remark 的 POU 會先收到合併管,再以向下 45° 方式接進 Submain(同一類可能產生多根合併管以收完所有 POU,取決於合併管的流量限制)。

合併管只沿 X / Y 軸方向產生,不會有斜的、垂直的、階梯狀的合併管;高程原則:POU 高度 > 合併管高度 > Submain 高度。

06

從 3D 模型到 2D 圖面

Layout Engine 產出的 OpenUSD,如何變成工程師能用的 CAD 交付物

Step 1
讀取 CSV + 3D 圖塊
→
Step 2
映射 3D 圖塊、定位旋轉
→
Step 3
由上而下投影壓扁
→
Step 4
2D 圖面加工規格化

Step 1 — 讀取資料

系統讀取 Layout 輸出的 CSV(記錄每台機台的配置資訊)。機台的原點座標計算方式特別:不是取 2D 圖塊左下角,而是抓出機台所有「維修區域」的四角,計算出整體中心點作為原點。3D 圖塊由客戶提供,包含機台本體、維修空間、Load Port、參考樓層、附屬設備等。

Step 2 — 映射與定位

系統將機台中心點放置到 CSV 指定的 XY 座標,並依角度旋轉。過程中常需處理 3D 圖塊瑕疵(如缺件、命名錯誤),系統需具備通用方法自動尋找並補正。

Step 3 — 3D 轉 2D 投影

將視角拉到最高、以俯視圖模擬「打光」效果,把物件投射邊緣描繪出來,達到壓扁成 2D 平面的效果。分層描繪:先主機台邊緣,再附屬機台,最後維修空間——前提是這些結構在原始 3D USD 中已是獨立物件。

Step 4 — 圖面規格化

投影完成後轉為 2D CAD(.DXF),依廠商需求把機台上色為藍色設備面,加上巨大 Main 邊框;依 CAD 規範在特定位置打叉或標框;附屬機台若需獨立標示,會畫上專屬藍色方框確保能被獨立識別。

未來可能的發展方向:
1. 「純 2D 流程」——先把單一圖塊壓成 2D,再依 CSV 座標直接排列成 2D 佈局,省去先組裝 3D 再壓扁的步驟。
2. 「2D 手排逆向生成 3D」——允許客戶直接在 CAD 手動排列 2D 圖面,系統再反推生成 3D 模型以驗證是否符合規範,技術挑戰在於圖層合併、文字塊與模型連結、以及回推中心點座標。
07

MetAI 產品架構與開發原則

Auto Hookup 與 Auto Layout 是兩套模組化流程,共用同一種「規則數位化」哲學

Auto Hookup

Rule Engine
走線規則數位化
→
Validator
驗證圖面是否合法
→
Path Gen
生成連接路徑
→
Component Placement
路徑上擺設管件
→
Output
USD / Revit / CAD

Auto Layout

Rule Engine
配置規則數位化
→
Validator
驗證佈局是否合法
→
Layout Gen
依 Tool List 生成配置
→
Output
USD / Revit / CAD

PoC 的建議切法

兩者是獨立的 PoC 項目:Hookup 選定單一系統、一組指定機台、一對一拓樸且人工設計最耗時者,先把該系統走線規則數位化並驗證;Layout 則以該機台所在區域為範圍,用 Hookup 視角驗證機台配置圖面。規則數位化是一次性投入,成功後可直接擴展到同類拓樸的其他系統或區域。

開發原則

原則意涵
Evidence before abstraction每個新抽象必須指出正在解決的已出現問題;「場內有」或「未來可能需要」不構成當下實作理由
Stable boundaries, replaceable implementations優先穩定資料 ownership 與模組 contract;solver、storage、加速實作應可替換
Immutable base, explicit derived state物理真相與請求特定/規劃特定的狀態要分開
Rules compile to semanticsRule Engine 的價值是把 domain knowledge 轉成可執行的 routing semantics,而非另建一套平行世界模型
Capability-based growth每個階段先形成最小端到端能力並驗證,再擴充下一層
Production readiness = contract + evidence成熟度不看文件詳細度或 class 數量,而看清楚的 contract、可預期行為、迴歸測試與現場實證

關鍵術語

術語定義
Physical World不依賴特定管線請求的場景實體佔用與必要 domain semantics
Traversability針對特定管線 envelope 與空間規則推導出的「可走/不可走」空間
RoutingProblem一個 solver-agnostic、可執行的單管尋路問題描述
Planning State已 commit 的管線、候選佔用、容量消耗等隨走線迭代改變的狀態
Constraint Compiler把系統規格、domain 規則與請求轉成 RoutingProblem semantics 的轉譯層
Orchestration管理多個 routing 請求的順序、commit/rollback、重試與全局策略
08

名詞對照表

依類別分組的常用詞彙速查,看到陌生術語時直接搜尋這裡

廠務系統

詞彙說明上下游關係
UPW(超純水)/PCW(製程冷卻水)由中央或區域供應端經幹管分配到設備,供回成對迴路系統Source → Main → Sub-main → Tool
Bulk Gas(GN2、CDA)/Specialty Gas由中央氣源經主管與控制設備送到使用點;特氣有相容性、隔離與氣密要求Source → Main/VMB → Tool
Vacuum / Pumping(PPL、Foreline)以幫浦與壓差抽除氣體,管路幾何直接影響真空導通與有效抽速Tool → Pump → Abatement → Exhaust
Exhaust 排氣以負壓與風管收集廢氣送往處理,管徑沿匯流逐段放大Tool/Abatement → Header → Exhaust 主系統
Drain / Waste 排液收集廢液送往處理,重力型高度依賴坡度與高程Tool → Branch → Header → 處理端
Electrical Power 電力從廠區電力系統逐層分配到機台與附屬設備Power → AC Box → Tray → Acc

附屬設備

詞彙說明
Chiller局部冷卻設備,建立局部冷卻迴路帶走 Tool 產生的熱量,與廠區級 Chiller Plant 不同層級
VMB(Valve Manifold Box)特氣閥件分配箱,對特殊氣體進行調壓、切斷、分配與安全控制
DP 盤(Distribution Panel)氣體/化學品終端分配盤,將中央供應在終端分配給 Tool;常與 VP Panel、DAQ 並列規劃
AC Box交流配電箱,將電力分配給附屬設備;Rack 視為其延伸
Lift Station / Waste Lift廢液提升設備,將重力收集的廢液以泵加壓送出

載體支撐

詞彙說明
Cable Tray 電纜架承載纜線的架體,分 Sky Tray(天)、Ground Tray(地)、立 Tray、Conduit;位置本身是決策變數,截面容量有限
門型架(Gate/Portal Frame)Subfab 內管線與 Tray 的依附結構,PPL 貼齊它走,Sub-tool 圖塊常以它為座標原點

資料文件

詞彙說明
Utility Matrix(UM/TUM)記錄每台設備的系統類別、用量、管徑與點位,是連線需求的來源,以機型為單位
Bluebook(BB)記錄 TOP 與其下游連管資訊的 SP1 接點資料表;與 UM 對應可能多對多,需人工判斷
P&ID/單線圖(SLD)P&ID 表達管線系統拓樸、流向與儀表;單線圖是電力系統的簡化連接圖,不表達流量
Rule List/Rule Sheet把工程限制與偏好以可判定的條列形式記錄,是 Rule Engine 數位化的源頭
Macro/Micro Layout定義環境與機台位置,是 Hookup 的空間前提;Macro 先於 Micro
Tool Block/Sub Tool Block可重用的標準模型元件,含 Maintenance Area、Load Port、Connector 等必要標注
RVT/IFC/DWG/DXF/USD各工具間交換模型與圖面的載體格式
BOM材料與元件的數量清單,供採購與施工使用

空間區域

詞彙說明
Bay/Intra-baybay-and-chase 佈局中機台成排的分區單元,與走道相間;Layout 規則多以 bay 為單位
Maintenance Area設備周邊保留的維修操作空間,屬圖塊一部分

製程區

詞彙說明
Lithography(LIT / EUV)透過塗光阻、曝光、顯影把電路圖形轉移到晶圓,對溫濕度、震動、潔淨度最敏感
Etch 蝕刻利用電漿或化學反應選擇性移除材料
Deposition(PVD/CVD/EPI)在晶圓表面形成材料薄膜
Diffusion / Thermal(DIF)透過高溫進行氧化、擴散、退火與材料活化
Ion Implantation(IMP)將離子加速後植入晶圓,改變材料電性
Wet Process / Clean(WET)以 UPW 與化學品進行清洗與濕式處理
CMP以 Slurry 的化學反應加機械研磨使晶圓表面平坦
Metrology/Inspection量測線寬、膜厚、套刻與缺陷等製程結果